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Sapphire HD4870 Toxic

La tecnologia Vapor-X che equipaggia questo modello permette ottime prestazioni e silenziosità. L'elevata velocità di rendering e le buone possibilità di overclock rendono questo prodotto ideale per gamer esigenti.

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Pubblicato il: 29/09/2008 nella categoria Componenti.

Sapphire HD4870 Toxic

Camera di vapore


Tra gli aspetti più innovativi di questo modello c'è sicuramente l'adozione della tecnologia Vapor-X, per il raffreddamento della GPU e delle memorie. Questo modello utilizza infatti un radiatore, che ad un primo sguardo risulta quasi del tutto identico ai tradizionali dissipatori in rame, ma invece incorpora il sistema Vapor Chamber.
sapphire-hd4870-toxic-1.jpg
È dunque disponibile una "camera di vapore", che si caratterizza per le ottime prestazioni in termini di dissipazione del calore e non necessita di grossi radiatori. In questo caso sono installate anche apposite heatpipe per decentrare il calore più velocemente, oltre a una ventola tachimetrica che sospinge l'aria fredda verso il radiatore e ne abbassa la temperatura. Il principio di funzionamento alla base di questo sistema è legato alla disponibilità di una camera stagna contenente un liquido dedicato. La sostanza liquida muta il proprio stato a una determinata temperatura e permette una migliore distribuzione del calore e una maggiore efficienza durante il funzionamento.

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Sommario:

Ottime prestazioni, rumorosità contenuta, possibilità di overclock Nessun inconveniente rilevato

Valutazione:

Ergonomia:

91 %
Benchmark:

95 %
Caratteristiche:

92 %
Giudizio:

90 %

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